System zur nasschemischen Behandlung von Wafern bis zu 12" oder Substraten bis zu 9"x9".

Üblicherweise wird dieses System für Reinigungs- und Entwicklungsprozesse in der Einzelwafer Bearbeitung eingesetzt ist aber auch für viele andere Anwendungsbereiche geeignet.

 

Auf Wunsch kann das System zusätzlich mit eine Be- und Entladeroboter zu einem vollautomatischen Tool erweitert werden.

OPTIwet ST30

  • Dies ist ein Kundenspezifisches Produkt bei dem eine sehr hohe Anzahl an Optionen zur Verfügungs steht. Bitte Kontaktieren Sie unseren Vertrieb für weitere Informationen und Unterstützung um ein auf Ihre Bedürfnisse angepasstes Produkt zu erhalten.